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ATMP具有(you)良好的(de)螯合、低限(xian)抑制及晶格畸(ji)變作用。可阻止水(shui)中(zhong)成(cheng)垢鹽類形成(cheng)水(shui)垢，特(te)別是碳酸鈣垢的(de)形成(cheng)。ATMP在(zai)水(shui)中(zhong)化學性(xing)質穩定，不易水(shui)解。在(zai)水(shui)中(zhong)濃度較高時，有(you)良好的(de)緩蝕效果。

HEDP是一(yi)種有機膦酸類阻垢緩蝕劑，能與鐵(tie)、銅、鋅等多種金屬離子形成穩定的絡(luo)合物(wu)，能溶解(jie)(jie)金屬表面的氧化物(wu)。在250℃下仍能起到良好的緩蝕阻垢作用(yong)，在高pH下仍很穩定，不(bu)易水解(jie)(jie)，一(yi)般(ban)光熱條件下不(bu)易分(fen)解(jie)(jie)。

HPMA一般相對分(fen)子量為400～800，無毒，易溶于水，化學穩定性(xing)及熱(re)穩定性(xing)高，分(fen)解溫度在330℃以(yi)上。HPMA適用于堿性(xing)環境。